日前台积电几名前员工被判刑，媒体披露的消息指是这些员工将台积电的2纳米技术泄露给日本的芯片设备企业TEL，借此帮助TEL提升刻蚀机的技术，而这恰恰在台积电正排除中国大陆的刻蚀机期间，TEL借此希望将它的刻蚀机卖给台积电。

据悉日本TEL早就有意将先进的刻蚀机卖给台积电，但是从3纳米以来，TEL多次提供设备给台积电测试，台积电都发现TEL的设备无法达到技术要求，为此TEL开始采取这种手段来获取相关技术改善刻蚀机。

据悉TEL负责这件事的陈某也曾是台积电的员工，凭借着他以前在台积电的工作关系而找到两名台积电在职两名员工，由此获得了台积电2纳米一些机密数据，进而将这些机密数据提供给TEL改善TEL的刻蚀机，事情很快案发，导致这三人被台湾省的高检署抓获判刑。

目前台积电3纳米及2纳米工艺的刻蚀机主要来自中国大陆的中微半导体和美国的泛林集团，而TEL的刻蚀机一直无法达到台积电的要求，这意味着中国大陆芯片设备企业研发的刻蚀机已与泛林集团的并列全球顶尖水平。

不过随着美国对芯片制造的新要求，台积电被迫将中微半导体的刻蚀机移除，如此将留出一片相当大的市场，TEL当然希望从中分羹，否则这笔订单将完全由泛林集团获得，由此促使TEL铤而走险，如今事发意味着TEL彻底丢掉了台积电的订单。

刻蚀机是中国芯片设备当中最先进的部分，在过去20年时间，中微半导体几乎都跟随着台积电研发最先进的刻蚀机，台积电为了避免完全受制于美国泛林集团，以中微半导体的刻蚀机制衡泛林集团，因此一直采购两家企业的刻蚀机。

如今在美国压力下，台积电将中微半导体的刻蚀机排除，这对中微来说无疑是不小的损失，未来中微半导体的刻蚀机将只能依靠中国大陆市场了，不过中国大陆市场如今正发展成为全球最大的芯片设备市场，中微受到的影响未必太大。

中国大陆的芯片制造企业已量产相当于7纳米工艺，正在积极向5纳米推进，对先进刻蚀机的需求迅速增加，中国已建成数十座芯片工厂，这些芯片工厂都在推进先进芯片研发，对刻蚀机等先进设备的需求将越来越大。

由于美国和日本的芯片设备企业不许出售先进芯片设备给中国，而中微作为国内最大的芯片设备企业之一，它也是唯一拥有5纳米及以下工艺的刻蚀机，将独占国内市场，可望在芯片技术不断升级的过程中斩获更多订单。

这也可以看出中国在芯片设备方面的发展非常迅猛，虽然在EUV光刻机等设备方面面临一些困难，但是在刻蚀机等其他芯片设备方面已达到世界一流水平，可以预期在中国芯片设备行业的共同努力下，这些难题必将一一得到化解，中国的芯片设备必将实现完全自主研发，摆脱对海外芯片设备的依赖。