京东方申请显示基板及其制备方法专利,隔离槽侧表面坡度角为锐角
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2026-03-11 21:25:00
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国家知识产权局信息显示,京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“显示基板及其制备方法、显示装置”的专利,公开号CN121647051A,申请日期为2024年3月。

专利摘要显示,一种显示基板及其制备方法、显示装置,显示基板包括子像素区域和非子像素区域,所述子像素区域包括依次设置在基底上的介质层,设置在所述介质层远离所述基底一侧的有机结构层,以及依次设置在所述有机结构层远离所述基底一侧的第一电极、发光功能层和第二电极,所述非子像素区域包括设置在基底上的介质层、设置在所述介质层远离所述基底一侧的有机结构层以及设置在所述有机结构层中的至少一个隔离槽,至少一个隔离槽位于所述子像素区域的至少一侧,所述隔离槽包括侧表面,所述隔离槽的侧表面的坡度角为锐角,所述发光功能层材料和所述第二电极材料中的至少一个在所述基底上的正投影包含所述隔离槽在所述基底上的正投影。

天眼查资料显示,京东方科技集团股份有限公司,成立于1993年,位于北京市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3741388.0464万人民币。通过天眼查大数据分析,京东方科技集团股份有限公司共对外投资了73家企业,参与招投标项目300次,财产线索方面有商标信息777条,专利信息5000条,此外企业还拥有行政许可47个。

重庆京东方显示技术有限公司,成立于2017年,位于重庆市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2600000万人民币。通过天眼查大数据分析,重庆京东方显示技术有限公司参与招投标项目1190次,专利信息725条,此外企业还拥有行政许可343个。

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来源:市场资讯

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