国家知识产权局信息显示，京东方科技集团股份有限公司及北京京东方技术开发有限公司申请一项名为“光源模组及其制备方法、背光模组、显示装置”的专利，公开号CN121596613A，申请日期为2024年8月。

专利摘要显示，本申请涉及一种光源模组及其制备方法、背光模组、显示装置，本申请中的光源模组包括光源基板和发光元件。光源基板包括光匀光功能层、凸起部、第一反射层和第二反射层。其中，将匀光功能层配置为柔性材料层，且在匀光功能层的至少一侧设置匀光结构，以及设置与多个发光元件一一对应的反射开孔。每一凸起部在匀光功能层上的正投影至少部分落入反射开孔内。第一反射层包覆凸起部。第二反射层覆盖匀光功能层。本申请利用匀光功能层的特性及其匀光功能层上的匀光结构相结合，能够有效地将发光元件所发出的光进行匀化，减少光膜的使用，进而降低光源模组的整体厚度，以满足对光源模组的厚度需求。

天眼查资料显示，京东方科技集团股份有限公司，成立于1993年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3741388.0464万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方科技集团股份有限公司共对外投资了73家企业，参与招投标项目309次，财产线索方面有商标信息777条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可47个。

北京京东方技术开发有限公司，成立于2016年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3800万人民币。通过天眼查大数据分析，北京京东方技术开发有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目94次，专利信息3996条，此外企业还拥有行政许可4个。

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来源：市场资讯