捷佳伟创获得发明专利授权：“RPD镀膜装置”_科技资讯

捷佳伟创获得发明专利授权：“RPD镀膜装置”

创始人

2025-07-23 10:01:39

0次

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示捷佳伟创（300724）新获得一项发明专利授权，专利名为“RPD镀膜装置”，专利申请号为CN202311221546.5，授权日为2025年7月22日。

专利摘要：本发明公开了一种RPD镀膜装置，包括镀膜室、炉膛、等离子体发生器、传送机构与输气机构，输气机构包括输气主体，输气主体位述炉膛朝向传送机构的一侧，输气主体具有排气孔，排气孔用于朝向炉膛排放反应气体，输气主体具有沿炉膛与传送机构的排布方向贯穿的反应腔。本发明将输气主体设置于靠近靶锭的高温升华区域，排气孔朝向炉膛扩散反应气体，反应气体扩散至炉膛中央附近，借由炉膛的高热促进反应气体中氧气的解离，可以有效提升氧气的解离度以及在待镀基板上分布的均匀度，降低因离子受到磁场的作用而偏向造成待镀基板上薄膜的不同区块含氧比例不均匀的影响，进而提高待镀基板上所沉积的薄膜的厚度与方阻的均匀性。

今年以来捷佳伟创新获得专利授权60个，较去年同期增加了39.53%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了6.49亿元，同比增38.94%。

通过天眼查大数据分析，深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司共对外投资了16家企业，参与招投标项目87次；财产线索方面有商标信息16条，专利信息495条，著作权信息79条；此外企业还拥有行政许可70个。

数据来源：天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理，由AI算法生成（网信算备310104345710301240019号），不构成投资建议。

上一篇：特朗普又准备打击伊朗？

下一篇：ChatGPT炸裂更新软件行业颠覆加速

捷佳伟创获得发明专利授权：“RPD镀膜装置”

相关内容

热门资讯