新傲芯翼申请SOI晶圆的制备方法专利，降低键合晶圆表面的雾度
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2025-07-19 05:00:51
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金融界2025年7月18日消息，国家知识产权局信息显示，上海新傲芯翼科技有限公司申请一项名为“SOI晶圆的制备方法”的专利，公开号CN120341171A，申请日期为2025年4月。
专利摘要显示，本发明提供一种SOI晶圆的制备方法，通过炉管设备对键合晶圆依次执行预退火工艺和退火工艺，以使键合晶圆中的部分厚度的器件衬底沿离子注入层剥离，预退火工艺的温度为250℃～300℃，退火工艺的温度为400℃～500℃。如此，在器件衬底的剥离过程中，可以改善炉管设备内的温度场分布均匀性，由此改善炉管设备内的键合晶圆的雾度差异，从而提高炉管设备内的键合晶圆之间的雾度均匀性，进而降低键合晶圆表面的雾度，并降低同一批次中所有键合晶圆雾度值的最大值与最小值之间的差值。
天眼查资料显示，上海新傲芯翼科技有限公司，成立于2022年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本80000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海新傲芯翼科技有限公司参与招投标项目22次，财产线索方面有商标信息9条，专利信息39条，此外企业还拥有行政许可4个。
来源：金融界
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